1.概念差异真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀零件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发凝结形成薄膜的一种方法。

2、比如真空镀铝、真空镀铬等。

3.2.光学镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或电介质)膜的过程。

4.光学零件表面镀膜的目的是降低或增加对光的反射、分束、分色、滤波和偏振的要求。

5.常用的涂覆方法包括真空涂覆(一种物理涂覆)和化学涂覆。

6.二、原理的区别真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频、磁控管等一系列新技术，制备薄膜的新工艺。

7.简单来说，就是在真空中蒸发或溅射一种金属、合金或化合物，使其固化沉积在被镀物体(称为基片、衬底或基体)上的方法。

8.2.光的干涉在薄膜光学中有广泛的应用。

9.光学薄膜技术常用的方法是用真空溅射的方法在玻璃基底上镀一层薄膜，一般用来控制基底对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需要。

10.为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，需要镀一层或多层透明介质膜，称为减反射膜或增透膜。

11.随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透射率有了不同的要求，这促进了多层高反膜和宽带减反射膜的发展。

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12.为了满足各种应用的需要，高反射膜被用于制造偏振反射膜、彩色分光膜、发光膜和干涉滤光片。

13.光学零件表面镀膜后，光线在膜层上多次反射和透射，形成多光束干涉。通过控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这就是干涉镀膜的基本原理。

14.方法与材料的区别真空镀膜材料的方法:(1)真空蒸发:将待镀膜的基片清洗干净，放入镀膜室。抽真空后，将膜材料加热到高温，使蒸汽达到13.3Pa左右，使蒸汽分子飞向衬底表面，凝结成膜。

15.(2)阴极溅射镀膜:将待镀膜的基片放在阴极的反面，向真空室中通入惰性气体(如氩气)，保持压强在1.33~13.3Pa左右，然后将阴极接入2000V DC电源，会触发辉光放电。带正电荷的氩离子会撞击阴极使其发射原子，溅射出来的原子通过惰性气氛沉积在基底上形成薄膜。

16.(3)化学气相沉积:通过热分解选定的金属化合物或有机化合物获得沉积薄膜的过程。

17.(4)离子镀:离子镀本质上是真空蒸发镀和阴极溅射镀的有机结合，兼具两者的工艺特点。

18.表6-9列出了各种涂层方法的优缺点。

19、2、光学镀膜法材料(1)氟化镁:无色四方粉末，纯度高，能提高光学镀膜的透过率，不塌陷。

20.(2)二氧化硅:无色透明晶体，熔点高，硬度高，化学稳定性好。

21.纯度高，由其制备的高质量二氧化硅涂层蒸发状态好，无塌陷点。

22、根据使用要求分为紫外线、红外线和可见光。

23.(3)氧化锆:白色重晶态，折射率高，耐高温，化学性质稳定，纯度高。它可用于制备无塌陷点的高质量氧化锆涂层。

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